TFT液晶顯示屏的優缺點是什么

TFT技術是在20世紀90年代發展起來的。采用新材料和新工藝的大規模半導體集成電路制造技術是液晶、無機和有機薄膜電致發光(EL和OEL)平板顯示器的基礎。TFT是通過濺射和化學沉積工藝在玻璃或塑料基板等非單晶片上(當然也可以在晶片上)形成制造電路所需的各種薄膜，通過加工薄膜制造大規模半導體集成電路(LSIC)。非單晶襯底的使用可以大大降低成本，是傳統大規模集成電路向大面積、多功能、低成本方向的延伸。在大面積玻璃或塑料基板上制造TFT來控制像素(LC或有機發光二極管)的開關性能，比在硅片上制造大規模ic更困難。對生產環境(凈化等級100)、原料純度(電子專用氣體純度99.99985%)的要求，對生產設備和生產工藝的要求都超過了半導體大規模集成的要求，是現代大規模生產的頂尖技術。

TFT液晶顯示屏大面積:90年代初，第一代大面積玻璃基板(300mm×400mm)TFT-LCD生產線投產。到2000年上半年，玻璃基板面積擴大到680mm×880mm，近950mm×1200mm玻璃基板也將投產。

TFT液晶顯示屏高集成度:用于液晶投影的1.3英寸TFT芯片分辨率為百萬像素XGA。分辨率SXGA(1280×1024)的TFT陣列16.1英寸非晶硅薄膜厚度只有50nm，TABONGLASS和SYSTEMONGLASS的技術及其IC集成度、對設備和供應工藝的要求、技術難度都高于傳統LSI。

TFT液晶顯示屏功能強大:TFT作為矩陣尋址電路，提高了液晶的光閥特性。對于高分辨率顯示器，通過在0-6V范圍內(其典型值為0.2-4V)調節電壓來實現對像素的精確控制，使得LCD實現高質量、高分辨率的顯示成為可能。

TFT液晶顯示屏成本低:玻璃基板和塑料基板從根本上解決了大規模半導體集成電路的成本問題，為大規模半導體集成電路的應用開辟了廣闊的應用空間。

TFT液晶顯示屏工藝靈活:除了濺射、CVD(化學氣相沉積)、MCVD(分子化學氣相沉積)等傳統工藝外，激光退火技術也開始應用，可以制作非晶薄膜、多晶薄膜和單晶薄膜。不僅可以制作硅膜，還可以制作其他II-VI和III-V半導體膜。

TFT液晶顯示屏應用領域廣。基于TFT技術的液晶平板顯示器是信息社會的支柱產業，該技術也可以應用于快速發展的TFT-有機發光二極管平板顯示器。